چین مدعی شد در ساخت تجهیزات تراشه‌سازی بومی، به نقطه عطفی رسیده که گام مهمی در شکست تحریم‌های آمریکا برای جلوگیری از دستیابی پکن به اهداف نیمه رسانا است.
به گزارش ایسنا، وزارت صنعت و فناوری اطلاعات چین، ماه جاری در بیانیه‌ای اعلام کرد به سازمان‌های مرتبط با دولت توصیه می‌شود از یک دستگاه لیتوگرافی ایمرسیون مبتنی بر لیزر با وضوح ۶۵ نانومتر یا بهتر استفاده کنند. هر چند این یادداشت تامین کننده را مشخص نمی‌کند، این مشخصات، نشان دهنده گامی به جلو در مقایسه با تجهیزات بومی پیشرفته قبلی است که توسط شرکت گروه تجهیزات میکرو الکترونیک شانگ‌های ساخته شد و حدود ۹۰ نانومتر بود.
تجهیزات تراشه‌سازی، یکی از موانع اصلی سر راه بلندپروازی‌های چین در بخش نیمه‌رسانا است که آمریکا در تلاش برای مهار آن‌ها است. شرکت‌هایی مانند SMEE در حال ساخت ماشین آلاتی هستند که می‌توانند شکاف با محصولات ساخت شرکت‌هایی مانند ASML هلند را ببندند. پیشرفت‌هایی که وزارت صنعت و فناوری اطلاعات هفته گذشته مدعی آن شد، نشان می‌دهد رقیبان بومی، در ساخت دستگاه‌های تراشه‌سازی پیشرفته‌تر، پیشرفت کرده‌اند، اما هنوز راه درازی تا رسیدن به پای شرکت ASML دارند.
شرکت ASML که بزرگترین فروشنده تجهیزات تولید تراشه در جهان است، در نتیجه لابی‌های آمریکا با دولت هلند، صادرات پیشرفته‌ترین سیستم‌های لیتوگرافی خود را به چین متوقف کرده است. آمریکا با هدف جلوگیری از پیشرفت چین در عرصه ابررایانش و هوش مصنوعی، در سال‌های ۲۰۲۲ و ۲۰۲۳، کنترل‌های صادراتی را برای ارسال تراشه‌ها و تجهیزات تراشه‌سازی به چین، اعمال کرد.
تولیدکنندگان نیمه‌رسانای چین، به ندرت از فناوری تراشه‌سازی خود صحبت می‌کنند، زیرا پکن، این بخش را به عنوان یک بخش مهم از نظر استراتژیکی برای امنیت ملی طبقه بندی کرده است.
